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中国首套高端光刻机曝光系统通过验收测试

10月25日,科技部原副部长曹健林在“第十五届中国国际半导体博览会暨高峰论坛”上透露,中国首套高端光刻机曝光系统,于本月在整机环境下通过验收测试。
  
  据悉,IC制造高端光刻机被誉为“现代光学工业之花”,而物镜系统则是光刻机的核心部件,是光刻机技术难度的集中体现。早在2007年,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”(简称:02专项),启动90nm节点曝光光学系统立项论证;2009年,该项目获批启动,其中,物镜系统和照明系统分别由两个研究所负责。
  
  按照规划,该项目一期投入近6亿元,拟建立物镜超精密光学研发团队及研发平台。2016年9月,物镜系统完成交付;2017年4月,90nm节点NA0.75ArF照明系统成功交付;今年10月,该曝光光学系统在整机环境下通过验收测试。
  
  曹健林表示,高端光刻机曝光光学系统的产业化准备已经就绪,长春国科精密光学技术有限公司早于2014年8月成立,该公司对超精密制造设备总投资约2亿元,扩产后将达5亿元。